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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CMP

    化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CMP簡(jiǎn)介:1. 該化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)可用于各類半導(dǎo)體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產(chǎn)品的CMP平坦化拋光。 通過(guò)更換拋光頭可兼容4、6、8...
    型號(hào): customize... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 17:04:26 對(duì)比
  • 劃片機(jī)

    精密劃片機(jī),劃片機(jī)簡(jiǎn)介:半導(dǎo)體晶圓、集成電路、QFN、發(fā)光二極管、LED芯片、太陽(yáng)能電池、電子基片等的劃切,適用于包括硅、石英、陶瓷、氧化鋁、氧化鐵、砷化鎵、鈮...
    型號(hào): customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 16:50:42 對(duì)比
  • CMP后清洗機(jī)

    CMP后清洗機(jī) 簡(jiǎn)介:該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專用清洗設(shè)備,有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu),以適用不同應(yīng)用場(chǎng)景,其中連線式設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列...
    型號(hào): customize... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 16:48:45 對(duì)比
  • 減薄機(jī)

    減薄機(jī) 簡(jiǎn)介:1. 可根據(jù)客戶需求定制化各類工作臺(tái),滿足各類半導(dǎo)體材料的研削薄化工藝2. 最大晶圓尺寸:8英寸3. 砂輪規(guī)格:Ø203(OD)mm4....
    型號(hào): customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 16:35:54 對(duì)比
  • 半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)

    半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是一款操作簡(jiǎn)單的桌面型單面拋光設(shè)備,可搭配銅盤(pán)、錫盤(pán)、玻璃盤(pán)、不銹鋼盤(pán)等,配合不同類型的拋光液,適用于各種半導(dǎo)體材料的研磨拋光,滿足科研院校、企...
    型號(hào): customize... 所在地:德國(guó) 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 16:28:32 對(duì)比
  • 中央供藥系統(tǒng)

    中央供藥系統(tǒng)簡(jiǎn)介:1.用于廠內(nèi)供藥,通過(guò)該系統(tǒng)可以按照設(shè)定的配比,將特定的藥液通過(guò)相應(yīng)的管路供應(yīng)到制程中。2.該系統(tǒng)供藥配比精確,配方可根據(jù)客戶需要進(jìn)行編輯確認(rèn)...
    型號(hào): customize... 所在地:蘇州市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 16:19:03 對(duì)比
  • 全自動(dòng)SCRUBBER清洗機(jī)

    全自動(dòng)SCRUBBER清洗機(jī) 簡(jiǎn)介:?清洗機(jī)可以用于對(duì)晶圓表面,背面及晶圓邊緣的清洗,通過(guò)創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細(xì)微顆粒污染物去除。通過(guò)大...
    型號(hào): customize... 所在地:上海市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 16:07:41 對(duì)比
  • 紫外線臭氧清洗機(jī)

    UV-300H是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機(jī)。通過(guò)滑動(dòng)抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合,可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半...
    型號(hào): UV-300H 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:39:31 對(duì)比
  • 紫外線臭氧清洗機(jī)

    UV-1是一款緊湊型臺(tái)式紫外線臭氧清洗機(jī)。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺(tái)加熱結(jié)合在一起,溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體(GaN、GaAs、InP、SiC...
    型號(hào): UV-1 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:30:45 對(duì)比
  • 全自動(dòng)CMP拋光機(jī)

    全自動(dòng)CMP拋光機(jī)是一款針對(duì)薄膜(介質(zhì)層)的全自動(dòng)拋光設(shè)備,操作便捷,兼容性強(qiáng),通過(guò)更換拋光壓頭實(shí)現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容,采用自動(dòng)化裝片方式,機(jī)械手自動(dòng)取放片,同...
    型號(hào): TPC-2110 所在地:北京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:27:31 對(duì)比
  • 等離子清洗設(shè)備

    PC-300等離子清洗設(shè)備是一種平行板式等離子清洗機(jī),用于清洗樣品表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染。該工藝室允許用戶安裝多個(gè)電架,架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產(chǎn)的...
    型號(hào): PC-300 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:27:23 對(duì)比
  • CMP拋光機(jī)

    CMP拋光機(jī)是一款針對(duì)薄膜(介質(zhì)層)的拋光設(shè)備,操作便捷,兼容性強(qiáng),通過(guò)更換拋光壓頭實(shí)現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容,采用手動(dòng)裝片方式,可配置半自動(dòng)loading系統(tǒng),氣...
    型號(hào): TMP-150A/... 所在地:北京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:23:56 對(duì)比
  • cmp拋光機(jī)

    POLI-400Lcmp拋光機(jī)是4&6英寸小型化學(xué)機(jī)械拋光機(jī),采用手動(dòng)裝片方式,氣囊薄膜柔性加壓,可配置摩擦力&溫度終點(diǎn)監(jiān)控系統(tǒng),用于氧化物、金屬、STI、SO...
    型號(hào): POLI-400L 所在地:北京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:17:26 對(duì)比
  • CMP拋光機(jī)

    POLI-500是小型8英寸CMP機(jī)臺(tái),采用手動(dòng)裝片方式,可選配半自動(dòng)loading托盤(pán),氣囊薄膜柔性加壓,可配置摩擦力&溫度終點(diǎn)監(jiān)控系統(tǒng),用于氧化物、金屬、S...
    型號(hào): POLI-500 所在地:北京市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:16:20 對(duì)比
  • CMP拋光機(jī)

    POLI-762是小型12英寸CMP機(jī)臺(tái),采用手動(dòng)裝片方式,可選配半自動(dòng)loading托盤(pán),氣囊薄膜柔性加壓,可配置摩擦力&溫度終點(diǎn)監(jiān)控系統(tǒng),用于氧化物、金屬、...
    型號(hào): POLI-762 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:15:12 對(duì)比
  • LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備

    LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備 系統(tǒng)安裝的 IDM 和晶圓代工廠,是大批量制造 40nm 至 140nm 節(jié)點(diǎn)的先進(jìn)邏輯器件的技術(shù)。LSA 101 的掃描技術(shù)...
    型號(hào): 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 15:13:03 對(duì)比
  • 離子注入機(jī)

    離子注入機(jī)是高壓小型加速器中的一種,應(yīng)用數(shù)量最多。它是由離子源得到所需要的離子,經(jīng)過(guò)加速得到幾百千電子伏能量的離子束流,用做半導(dǎo)體材料、大規(guī)模集成電路和器件的離...
    型號(hào): customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 14:25:56 對(duì)比
  • 快速退火爐RTP

    快速退火爐RTP主要功能:快速熱退火,快速熱氧化,快速熱氮化,擴(kuò)散,化合物半導(dǎo)體退火,離子注入后退火,電極合金化等。樣片尺寸:8inch,向下兼容,支持不規(guī)整樣...
    型號(hào): customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 14:21:08 對(duì)比
  • 電鍍?cè)O(shè)備

    電鍍?cè)O(shè)備 應(yīng)用領(lǐng)域:Pillar,Bump,RDL,TSV等工藝 (3) 設(shè)備配置: 最多3個(gè)loadport ; 最多24個(gè)電鍍腔體:Cu、Ni、Sn/Ag、...
    型號(hào): customize... 所在地:蘇州市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 14:17:52 對(duì)比
  • 激光退火設(shè)備

    半導(dǎo)體激光退火機(jī)是用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的一種設(shè)備。退火是一種熱處理過(guò)程,通過(guò)加熱半導(dǎo)體材料來(lái)改變其性質(zhì),以實(shí)現(xiàn)所需的特性,如電導(dǎo)率、晶體結(jié)構(gòu)和應(yīng)力緩解。半導(dǎo)體激...
    型號(hào): customize... 所在地:深圳市 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2024/9/6 14:14:17 對(duì)比

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